真空镀分为真空蒸镀、磁控溅射镀、多弧离子镀
真空蒸镀：低温金属蒸源加热自然附着于金属表面（导电），也可以通过加入各种气体在工件表面表面得到金属化合物（不导电）。光学镀膜也属于这种，可以精密控制膜层厚度。膜质较疏松。
磁控溅射镀：利用真空离子溅射，使物品沉积金属原子，无任何化学药剂，可以通过磁力作用使金属沉积有方向性，该方法适用于各种材料表面镀，也可以镀所有金属。其膜质致密。
多弧离子镀：利用电弧轰击金属靶材，使金属离子化，飞溅到基材表面。该方法电镀速度很快，膜质较优。但是炉腔内温度较高，只适用于金属或陶瓷基材。
真空蒸镀：低温金属蒸源加热自然附着于金属表面（导电），也可以通过加入各种气体在工件表面表面得到金属化合物（不导电）。光学镀膜也属于这种，可以精密控制膜层厚度。膜质较疏松。
磁控溅射镀：利用真空离子溅射，使物品沉积金属原子，无任何化学药剂，可以通过磁力作用使金属沉积有方向性，该方法适用于各种材料表面镀，也可以镀所有金属。其膜质致密。
多弧离子镀：利用电弧轰击金属靶材，使金属离子化，飞溅到基材表面。该方法电镀速度很快，膜质较优。但是炉腔内温度较高，只适用于金属或陶瓷基材。
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